硅溶胶研磨液--精密工件镜面抛光效果秘密

吉致电子硅溶胶研磨液/抛光液采用的是纳米级工艺，主要粒径在10-150nm。适用于各种材质工件的CMP表面镜面处理。

以硅溶胶浆料为镜面的平面研磨的材料有半导体晶圆、光学玻璃、3C电子金属元件、蓝宝石衬底、LED显示屏等高精密元件。

硅溶胶抛光液也称氧化硅抛光液、二氧化硅精抛液，SiO2是硅溶胶的化学名，适用范围已扩展到半导体产品的CMP抛光工艺中。

CMP抛光机可以将氧化硅研磨液循环引入磨盘，同时起到润滑和冷却的作用，通过化学机械抛光液和抛光垫组合抛磨可以使工件表面粗糙度达到0.2um以下，对表面质量要求高的产品可选择硅溶胶研磨液。

硅溶胶研磨液可以达到0.9-1.2um/min的去除率，具有去除率高的特点，有效提高抛光生产率，使用起来非常方便。不加水直接使用，不结晶不沉淀分散性佳，抛光效果好，不划伤工件，无起雾现象，可以实现镜面效果。

吉致电子真正CMP抛光液厂家，氧化硅抛光液悬浮性极佳，高固含量、分散性好，易摇散且不团聚，化学性能稳定。氧化硅精抛液抛光效率高，能有效缩短工时，磨抛后工件呈现镜面效果，无划伤、高平坦。Slurry免费样品可联系：17706168670

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