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碳化硅衬底CMP抛磨工艺流程

碳化硅衬底CMP抛磨工艺流程碳化硅衬底CMP化学机械抛光工艺需要用到吉致电子CMP抛光液http://www.jzdz-wx.com/和抛光垫,抛磨工艺一般分为3道流程:双面抛磨、粗抛、精抛。碳化硅衬底双面研磨:一般使用双面铸铁盘…
2024-01-29 14:15类目:五金

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