镜面抛光液---氧化硅抛光液在抛光中的作用

镜面抛光液的主要材料是纳米二氧化硅磨料，制备成的液体浆料也称为硅溶胶抛光液。二氧化硅抛光液主要适用于抛光蓝宝石衬底、硅片、半导体、精密电子工件、晶体等产品。

二氧化硅抛光浆料主要利用硅胶离子的高速抛光来达到表面处理的效果。二氧化硅是用纳米技术制成的。根据工件抛磨要求，可制备出不同切削力的产品达到镜面抛光。粒度控制可以有效减少电子工件上的污垢，使用纳米级硅胶颗粒加工工件，不会损伤工件，同时还能达到理想效果。

氧化硅抛光液需要配合精抛垫使用，精抛垫的主要成分是聚氨酯，聚氨酯的众多孔隙可以将抛光液均匀地粘在其表面，与工件一起研磨时，CMP抛光液与聚氨酯的结合可以产生镜面抛光效果。

使用吉致电子氧化硅悬浮液后，产品表面粗糙度显著降低，达到要求RA值，液体不残留易清洗。在金属工件领域如不锈钢、铝合金、钛合金等都具有明显的抛光效果。

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