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吉致电子 射频滤波器抛光液slurry厂家

射频滤波器发展至今，基本主要有两种构型，其中，一类是SAW滤波器（声表面波，Surface Acoustic Wave），另一类是BAW滤波器（体声波，Bulk Acoustic Wave），而BAW滤波器又可细分为SMR（固态装配谐振器,Solidly M…
2024-01-30 09:37类目：五金

碳化硅衬底抛光液的特点

碳化硅半导体晶片的制作一般在切片后需要用CMP化学机械抛光液进行抛光，以移除表面的缺陷与损伤。碳化硅（Sic）晶片以高纯硅粉和高纯碳粉作为原材料，采用物理气相传输法（PVT）生长碳化硅单晶，再在衬底上使用化…
2024-01-30 09:36类目：五金

碳化硅衬底CMP抛磨工艺流程

碳化硅衬底CMP抛磨工艺流程碳化硅衬底CMP化学机械抛光工艺需要用到吉致电子CMP抛光液http://www.jzdz-wx.com/和抛光垫，抛磨工艺一般分为3道流程：双面抛磨、粗抛、精抛。碳化硅衬底双面研磨：一般使用双面铸铁盘…
2024-01-29 14:15类目：五金

金属手机边框的镜面抛光方法是什么？

手机金属外壳/手机边框材质一般为不锈钢、钛合金、铝合金等，如华为\Iphone手机金属边框要达到完美的镜面效果需要精抛步骤----手机边框抛光液slurry的主要成份是二氧化硅，二氧化硅抛光液外观为乳白色，呈悬浮液…
2024-01-29 14:06类目：五金

吉致电子浅槽隔离抛光液怎么用

吉致电子http://www.jzdz-wx.com/浅槽隔离抛光液适用范围：单晶硅、多晶硅的研磨抛光，存储器制程和背照式传感器(BSI)制程等。STISlurry适用于集成电路当中的铜互连工艺制程中铜的去除和平坦化。具有高的铜去除速…
2024-01-29 14:04类目：五金

吉致电子抛光液---温度对蓝宝石衬底CMP工艺的影响

温度在蓝宝石衬底抛光中起着非常重要的作用, 它对CMP工艺的影响体现在抛光的各个环节。在CMP工艺的化学反应过程和机械去除过程这两个环节中, 受温度影响十分强烈。一般来说, CMP化学机械抛光液温度越高, 抛光速率…
2024-01-27 10:00类目：五金

SIC碳化硅的化学机械抛光工艺

碳化硅Sic单晶生长之后是晶碇，而且具有表面缺陷，是没法直接用于外延的，这就需要加工。其中，滚圆把晶碇做成标准的圆柱体，线切割会把晶碇切割成晶片，各种表征保证加工的方向，而抛光则是提高晶片的质量。SiC…
2024-01-27 09:56类目：五金

蓝宝石抛光液是不是二氧化硅抛光液

蓝宝石抛光液是不是二氧化硅抛光液？蓝宝石抛光液是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺制备成的一种低金属离子CMP抛光液，是一种高纯度的氧化硅抛光液，广泛应用于多种材料的纳米级高平坦化抛光，是Wafer减薄抛光液…
2024-01-24 11:03类目：五金

铜化学机械抛光液---什么是TSV技术？

TSV全称为：Through -Silicon-Via，中文译为：硅通孔技术。它是通过在芯片和芯片之间、晶圆和晶圆之间制作垂直导通；TSV技术通过铜、钨、多晶硅等导电物质的填充，实现硅通孔的垂直电气互连，实现芯片之间互连的…
2024-01-24 10:40类目：五金

第三代半导体材料--碳化硅晶圆SiC抛光液

随着硅半导体材料主导的摩尔定律逐渐走向其物理极限，以化合物半导体材料，特别是第三代半导体为代表的半导体新材料快速崛起。半导体抛光液是半导体材料制程中不可或缺是耗材。其中碳化硅是新型电力系统，特高压…
2024-01-24 10:38类目：五金

什么是OX研磨液?吉致电子氧化层抛光液性能有哪些？

Oxide slurry简称OX氧化物研磨液广泛用于氧化层材料的CMP抛光，抛光研磨后达到精准的表面平整度和厚度控制，如Si Wafer晶圆表面的氧化硅层或者上层金属与氧化硅之间的氧化硅层等吉致电子OX氧化层抛光液适用于4-12…
2024-01-24 09:22类目：五金

蓝宝石窗口平面加工--蓝宝石研磨液

蓝宝石平面视窗、精密质量蓝宝石视窗、高精度质量蓝宝石视窗是为各种光学、机械和电子应用提供了强度、耐磨性、化学惰性适用于光学和激光应用，这些蓝宝石窗口设计用于关键的光学和激光应用。蓝宝石窗口的制程中…
2024-01-24 09:20类目：五金

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